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「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」頒獎典禮暨開幕式
發佈日期：2022-08-28
文化部所屬國立臺灣美術館主辦「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」，於8/27舉辦頒獎典禮暨開幕式，邀請得獎藝術家及入選者一同出席與會，金牌獎得主CléMence FERNANDO、銀牌獎得主Irena LAWRUSZKO、銅牌獎得主Orlando MARTINEZ VESGA及優選獎得主Tina WOLFARTH 4位國外得獎藝術家亦來臺出席盛會，由文化部常務次長李連權、國立臺灣美術館館長廖仁義、評審團代表呂燕卿等頒發獎狀，彰顯獲獎藝術家的榮譽。本屆國際版畫雙年展獲得世界各地版畫創作者的迴響與支持，共徵得來自79國的1011件作品。經初審評審團審慎地討論與篩選，再交由國際複審委員多輪謹慎的評選過程，遴選出計50國180件展出作品。其中包含金、銀、銅牌獎各1名、評審團特別獎2名、優選及佳作各5名，共計15件得獎作品。
文化部常務次長李連權代表文化部長李永得感謝國美館與藝術家40年20屆不間斷的舉辦及參與，「中華民國國際版畫雙年展是臺灣藝術界與藝術家的光榮」。李次長表示，國美館舉辦的「國際版畫雙年展」與波蘭的版畫展，並列世界的兩大版畫展之一，「中華民國國際版畫雙年展」有三大特色，一是國際化，本屆吸引來自全球五大洲、79國1011位藝術家報名參賽；二是各國參展水準十分平均；三是評審非常公平公正。此外，本展有二層重要的意義，一是促進臺灣版畫與國際間的文化交流；二是打造「國際版畫雙年展」成為國際品牌，在國際知名度大增。
國美館長廖仁義表示，版畫是人類歷史中很古老的藝術，在臺灣的發展歷史也很悠久，自1960年代後，臺灣民間有很多版畫工作室，學校美術科系亦有教授版畫，在全臺各地有很多傑出的版畫藝術家。因此，國美館舉辦「國際版畫雙年展」，抱持著使命感，希望為整個國際版畫界提供一個表現及得到光榮的舞臺。「國際版畫雙年展」1983年開始舉辦，至今40年，比國美館年紀還要大，本屆共徵得來自世界79國、1011件作品參賽，不但說明國美館在評審過程的專業態度，也更說明臺灣是熱愛和平，能夠欣賞別人優點的國家。
國美館表示，本屆雖受疫情影響，但外國得獎藝術家及外國審查委員仍踴躍參與，複審委員澳洲皇家墨爾本理工大學藝術學院榮譽教授Lesley DUXBURY女士不畏疫情來臺審查。金牌獎得主CléMence FERNANDO、銀牌獎得主Irena LAWRUSZKO、銅牌獎得主Orlando MARTINEZ VESGA及優選獎得主Tina WOLFARTH 4位國外得獎藝術家亦來臺出席為期2天的活動，顯示藝術家對「中華民國國際版畫雙年展」的重視。
金、銀、銅牌得獎藝術家特別表達感謝國美館與評審團的青睞，有幸獲獎及參與「中華民國國際版畫雙年展」。金牌獎得主CléMence FERNANDO說，「國美館就像藝術的仙境，能夠在這裡看到自己的作品，非常開心。」，銀牌獎得主Irena LAWRUSZKO今年即將完成波蘭華沙美術學院的版畫博士學位，來自烏克蘭的她說到親人勇敢留在戰火中，致詞時她特別感謝家人從小對她在藝術創作的支持。銅牌獎得主Orlando MARTINEZ VESGA提到，2年前因為疫情無法來臺參加本展，當時十分惆悵，4年後重新歸來，十分喜悅。
本屆初審評審團召集人呂燕卿提到，「本屆版畫作品完整度高超，並體現作品的共同性與特殊性。共同性如審美理想與人生關照之傳達，特殊性如各具民族意識與文化特質、多元而獨特」。複審委員陳曉朋表示，「本屆獲獎者的作品充分展現新時代、疫情下的人類生存面向，併用版種、媒材技法多元而帶有科技進步趨向。整體在全球化、普遍性的面相下仍保有性別、國家、區域、種族的個別性，充分展現當代生活的節奏」。
國美館指出，本屆榮獲金牌獎的是來自法國的女性藝術家CléMence FERNANDO，以美柔汀雕凹技法創作的作品〈54〉，藉元素重複組合的多樣變化，探索多樣可能的創造性；獲得銀牌獎的是烏克蘭籍的藝術家Irena LAWRUSZKO（現居波蘭），她的作品〈Time and Passing III〉，取材來自廢棄寺廟獲得的靈感，運用蝕刻、金箔技法來營造出時間流逝下頹然的氛圍；來自哥倫比亞的參賽者Orlando MARTINEZ VESGA的作品〈Flight Practices, from the Series“P F A A O A”〉獲得銅牌獎，他擅長利用日常與荒謬行為的對照，呈現出某種不安的平衡，試圖探問打破規則的可能。
本屆有半數的參賽作品來自亞洲地區，委員皆對本屆參賽作品的數量眾多、質量優異、風格多樣、技法精煉創新等幾點表示高度肯定。另一方面，在本屆獲獎的15位藝術家中，臺灣藝術家共佔有2席（榮獲評審團特別獎的李佩璋及佳作獲獎者潘孟堯），顯示臺灣版畫創作的純熟度及藝術表現性備受肯定。其他幾位得獎藝術家，包含來自日本、中國等亞洲國家者；來自法國、烏克蘭、英國、波蘭、德國、西班牙等歐洲國家者；以及來自哥倫比亞、古巴等中南美洲國家者。此外，本屆共有97位來自波蘭的藝術家參賽，為歐美地區參賽者最多的國家，16位經過初審遴選進入複審，其中Wieslaw HALADAJ及Monika PAŁKA皆獲得優選獎，取得優秀的成績，顯示「國際版畫雙年展」深耕亞洲之外，也受到世界各國藝術家的支持與重視。
「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」即日起於國美館展出，於8/28上午10點在國美館演講廳辦理的國際版雙展「藝術家座談會」，邀請國內版畫領域專家學者以及本屆獲獎藝術家與會，分享各自的版畫創作理念與歷程，探討國際版畫發展潮流等相關議題；此外還有其他本展相關的推廣教育活動，歡迎藝術愛好者共襄盛舉。各活動詳情，請上國美館網站查詢（http://www.ntmofa.gov.tw）。
「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」
地點：國立臺灣美術館301、302展覽室（臺中市西區五權西路一段2號）
時間：即日起至11月20日，週二至週五09:00-17:00、週六、週日09:00-18:00（每週一休館）
文化部常務次長李連權致詞
國美館館長廖仁義致詞
(左起)評審委員楊明迭、倪朝龍、國美館館長廖仁義、文化部常務次長李連權、評審委員呂燕卿、陳曉朋與出席得獎者、入選者合影
民眾參觀「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」
